- Новинка
Тканевая маска с экстрактом лотоса Snow 10 шт.
Snow Lotus Glacier Water Alaska Mask 10
- Артикул JM711883
- Бренд JMsolution
- Наличие Нет в наличии
- Объем 10*45g
- Страна Корея
- Тип средств Маска
- Эффект Увлажнение; Успокаивающее действие; От покраснений
- Тип кожи Обезвоженная
- Линейка Snow
- Активные компоненты Глицерин, Лотос, Трегалоза, Аргинин, Аллантоин, Мочевина, Центелла азиатская, Экстракт алоэ, Аминокислоты
-
Питательная тканевая маска с экстрактом лотоса 10 шт.
1 160 ₽
-
Маска ампульная Aqua Hyaluron 62
820 ₽
-
Набор увлажняющих тканевых масок с азуленом и агавой
1 560 ₽
-
Увлажняющая гидрогелевая маска с микроиглами
532 ₽
-
Увлажняющая маска c экстрактом бамбука 10 шт.
1 000 ₽
-
Успокаивающая тканевая маска с центеллой 10 шт.
1 560 ₽
-
Увлажняющая тканевая маска
285 ₽
-
Увлажняющая тканевая маска с азуленом и агавой
390 ₽
-
Ежедневная быстрая многофункциональная увлажняющая маска 30 шт
2 146 ₽
-
Увлажняющая ночная маска с центеллой
2 065 ₽
Тонизирующая тканевая маска с экстрактом лотоса Snow Lotus Glacier Water Alaska Mask интенсивно увлажняет, устраняет сухость и шелушение, предотвращает обезвоженность.
Успокаивает раздраженную кожу, снимает зуд и красноту, усиливает защитные функции.
Water, Butylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Methylpropanediol, Phenoxyethanol, Trehalose, Xanthan Gum, Carbomer, Arginine, Water (1000.58ppm), Erythritol, Polysorbate 20, Allantoin, Ethylhexylglycerin, Hydroxyethylcellulose, Disodium Edta, Fragrance, 1,2-hexanediol, Lactobionic Acid, Saussurea Involucrata Extract (5ppm), Houttuynia Cordata Extract, Laminaria Japonica Extract, Betula Platyphylla Japonica Juice, Centella Asiatica Extract, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Leontopodium Alpinum Extract, Disodium Phosphate, Polysorbate 60, Sodium Phosphate, Pseudoalteromonas Ferment Extract, Sea Water, Ulmus Campestris (elm) Bark Extract, Glycine Max (soybean) Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Caprylyl Glycol, Bacillus Ferment, Lactobacillus Ferment, Aspergillus Ferment.
После очищения, тонизирования и использования сыворотки нанесите маску на лицо, распределите.
Снимите спустя 10–20 минут, дайте впитаться остаткам эссенции.
При необходимости завершите процедуру ухода нанесением крема.
Поделитесь своим впечатлением
- Отзывов пока нет
